等離子體是物質的一種狀態，也稱為物質的第四種狀態，不屬于常見的固液氣三態向氣體施加足夠的能量使其電離為等離子體狀態。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、原子、活性基團、受激核素(亞穩態)、光子等。
真空等離子清洗機技術作為一種新的材料表面改性方法，在等離子清洗機中以其能耗低、污染小、處理時間短、效果明顯而受到人們的關注。在等離子清洗機的眾多改造方法中，低溫等離子清洗機近年來發展迅速，等離子清洗機與其他方法相比有很多優點。
當清潔和去污完成時，材料本身的表面性質可以得到改善。例如改善表面的潤濕性和改善膜的粘附性，這在許多應用中是非常重要的。
等離子體清洗要控制的真空度約為100Pa，容易實現。因此這種裝置的設備成本不高，清洗過程不需要使用昂貴的有機溶劑，使得整體成本低于傳統的濕法清洗工藝；