等離子體是物質的一種存在狀態。通常情況下，物質以固態、液態和氣態三種狀態存在，但在某些特殊情況下會出現第四種狀態，比如地球大氣層中電離層中的物質。
等離子體清洗要控制的真空度約為100Pa，容易實現。因此這種裝置的設備成本不高，清洗過程不需要使用昂貴的有機溶劑，使得整體成本低于傳統的濕法清洗工藝；
等離子清洗使用戶遠離有害溶劑對人體的傷害，同時避免了濕式清洗中清洗對象易被沖走的問題；
等離子體和固體、液體或氣體一樣，是一種物質狀態，也叫物質第四態。向氣體施加足夠的能量以將其電離成等離子體狀態。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、活性基團、受激核素(亞穩態)、光子等。等離子體表面處理儀器就是利用這些活性成分的性質對樣品表面進行處理，從而達到清洗、修飾和灰化光刻膠的目的。