等離子清洗可以處理各種材料，無論是金屬、半導體、氧化物，還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環氧樹脂等聚合物)。所以特別適合不耐熱不耐溶劑的材料。還可以選擇性地部分清洗材料的整體、局部或復雜結構；
真空等離子清洗機利用等離子體中各種高能物質的活化作用，徹底剝離附著在物體表面的污垢。以氧等離子體去除物體表面的油脂和污垢為例來說明這些作用。等離子體對油垢的作用類似于燃燒油垢。但不同的是，它在低溫下“燃燒”。其基本原理:在氧等離子體中氧原子自由基、受激氧分子、電子和紫外線的共同作用下，油分子最終被氧化成水和二氧化碳分子，從物體表面被清除。
等離子清洗機就是利用這些活性成分的特性來處理樣品表面，從而達到清洗和鍍膜的目的。
等離子體和固體、液體或氣體一樣，是一種物質狀態，也叫物質第四態。向氣體施加足夠的能量以將其電離成等離子體狀態。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、活性基團、受激核素(亞穩態)、光子等。等離子體表面處理儀器就是利用這些活性成分的性質對樣品表面進行處理，從而達到清洗、修飾和灰化光刻膠的目的。