脈沖激光沉積簡介
脈沖激光沉積是一種廣泛應用于各種薄膜制備技術的方法，其原理是將激光聚焦于靶材上較小的面積。通過激光的高能量密度，部分靶材料被蒸發甚至電離，使其能夠脫離靶材并向基底運動，進而沉積于基底上，形成薄膜。在眾多薄膜制備方法中，脈沖激光沉積技術應用范圍廣泛，可以制備金屬、半導體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質薄膜，甚至還可以用來制備一些難以合成的材料膜，如金剛石、立方氮化物膜等。
高能核素濺射表面的部分原子，并在入射流與受濺射原子之間，建立了一個碰撞區。通過控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有獨特功能的納米結構和納米顆粒。此外，脈沖激光沉積（PLD）是一種“數字”技術，在納米尺度上進行工藝控制（A°/pulse）。
沈陽鵬程真空技術有限責任公司是一家以誠信為首、服務至上為宗旨的公司，專注于脈沖激光沉積研發定制與生產。公司擁有強大的銷售團隊和經營理念，生產、銷售脈沖激光沉積，擁有先進的技術支持。靶臺可安裝6個靶位，靶材更換靈活；樣品臺樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用；進樣室可存儲多個靶和樣品。交易過程無需繁瑣的進、出關手續，交貨期短，性價比高。如需了解更多脈沖激光沉積的相關內容，歡迎撥打圖片上的熱線電話。
