品牌：其他
型號：ZK-D
原理類型：真空濺射鍍膜機
應用領域：光學薄膜
極限真空度類型：高真空0.00001~0.1Pa
極限真空度：0.00005Pa
鍍膜室尺寸：450mm
工作真空度：0.00005Pa
抽氣時間：30min
技術參數：
1.?????極限真空度：5×10-5Pa；
2.?????PLD與PVD在一個腔體內鍍膜；
3.?????配有進樣室及機械手磁力傳動機構，在不破壞主真空室內的真空度前提下進行樣品的取放；
4.?????基板加熱溫度：900℃；
5.?????配有多個觀察窗，方便觀察內部的運行情況；
6.?????球體直徑為450mm，也可根據客戶要求進行定制。
技術參數：
1.?????極限真空度：5×10-5Pa；
2.?????PLD與PVD在一個腔體內鍍膜；
3.?????配有進樣室及機械手磁力傳動機構，在不破壞主真空室內的真空度前提下進行樣品的取放；
4.?????基板加熱溫度：900℃；
5.?????配有多個觀察窗，方便觀察內部的運行情況；
6.?????球體直徑為450mm，也可根據客戶要求進行定制。
技術參數：
1.?????極限真空度：5×10-5Pa；
2.?????PLD與PVD在一個腔體內鍍膜；
3.?????配有進樣室及機械手磁力傳動機構，在不破壞主真空室內的真空度前提下進行樣品的取放；
4.?????基板加熱溫度：900℃；
5.?????配有多個觀察窗，方便觀察內部的運行情況；
6.?????球體直徑為450mm，也可根據客戶要求進行定制。
技術參數：
1.?????極限真空度：5×10-5Pa；
2.?????PLD與PVD在一個腔體內鍍膜；
3.?????配有進樣室及機械手磁力傳動機構，在不破壞主真空室內的真空度前提下進行樣品的取放；
4.?????基板加熱溫度：900℃；
5.?????配有多個觀察窗，方便觀察內部的運行情況；
6.?????球體直徑為450mm，也可根據客戶要求進行定制。
技術參數：
1.?????極限真空度：5×10-5Pa；
2.?????PLD與PVD在一個腔體內鍍膜；
3.?????配有進樣室及機械手磁力傳動機構，在不破壞主真空室內的真空度前提下進行樣品的取放；
4.?????基板加熱溫度：900℃；
5.?????配有多個觀察窗，方便觀察內部的運行情況；
6.?????球體直徑為450mm，也可根據客戶要求進行定制。
技術參數：
1.?????極限真空度：5×10-5Pa；
2.?????PLD與PVD在一個腔體內鍍膜；
3.?????配有進樣室及機械手磁力傳動機構，在不破壞主真空室內的真空度前提下進行樣品的取放；
4.?????基板加熱溫度：900℃；
5.?????配有多個觀察窗，方便觀察內部的運行情況；
6.?????球體直徑為450mm，也可根據客戶要求進行定制。
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