品牌：常州鴻明
型號：HM-Sputtering-120
原理類型：真空濺射鍍膜機
應用領域：所有行業
極限真空度類型：超高真空
鍍膜室尺寸：120mm
抽氣時間：2min
本公司為國內精密儀器設備領域的專業廠商，為各大工廠、高校、研究所提供一流的設備，和生產、實驗解決方案。
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黃經理
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小型磁控濺射鍍膜儀參數指標
1.腔室尺寸：Ф120×180mm，304優質不銹鋼材質，氬弧焊接，帶玻璃觀察罩；
2.樣品臺尺寸：Ф30 ~75mm，高度：60～120mm可調；
3.真空系統：合資機械泵+分子泵；采用電磁擋板閥及限流閥；（選配）
4.極限真空：8.0×10-5Pa；
5.真空抽速：大氣～8×10-4Pa≤20min；
6.真空測量：全量程復合真空計，測量范圍：105Pa～10-5Pa；（選配）
7.磁控靶：Φ2英寸2只（含靶擋板），兼容直流電源和射頻電源；
8.濺射電源：500W直流濺射電源和300W自動匹配射頻電源可選；
9.質量流量計：進口20sccm、50sccm質量流量控制器各一套；
10.控制方式：具備漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養維護提示等功能；
11.設備外形：L60cm×W60cm×H96cm機電一體化機架，預留1個KF25法蘭接口；
12.設備供電總功率≤2KW，220V，單相三線制（一火一零一地）；
13.設備集成度高，可以直接放置于實驗桌面上，需要拆卸的部分采用即插即用的方式，接線及安裝調試便捷簡單；
14.設備整機可置于手套箱內，水、電、氣等通過KF40接口接到手套箱外，與手套箱的對接靈活方便；
