品牌：MICRO-X
型號：MXG1200-PECVD
類型：化學氣相沉積裝置
用途：化學氣相沉積
適用領域：科研
外形尺寸：1250*860*1500mm
重量：330kg
MXGH1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統
產品簡介：此款設備配有Plasma實現等離子增強，滑軌式設計在操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環境下，得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調裝置，可準確的控制反應腔體內部的氣體壓力，帶刻度的調節閥對于做低壓CVD非常簡單實用，工藝重復性好，對于石墨烯生長工藝非常合適，也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實驗。
主要功能和特點：
1、利用輝光放電產生等離子體電子激活氣相；
2、提高了氣相反應的沉積速率、成膜質量；
3、可通過調整射頻電源頻率來控制沉積速率；
4、能廣泛用于：石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生長。
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滑軌管式爐技術參數 | ||
? ? ? | 石英管尺寸 | L1400mm ?Φ（60、80、100） |
加熱元件 | 摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲 | |
測溫元件 | K型熱電偶 | |
加熱區長度 | 410mm ? | |
恒溫區長度 | 200mm | |
工作溫度 | ≤1100℃ | |
控溫模式 | 模糊PID控制和自整定調節，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶報警功能 | |
控溫精度 | ±1℃ | |
升溫速率 | ≤20℃/min | |
電功率 | AC220V/50HZ/3KW | |
質量供氣系統技術參數 | ||
? ? ? ? ? | 外形尺寸 | 600x600x600mm |
標準量程 | 50sccm（CH4）、200sccm（H2）、500sccm（Ar、N2）； | |
壓力表測量范圍 | -0.1Mpa～0.15Mpa | |
極限壓力 | 3MPa | |
針閥 | 316不銹鋼 | |
截止閥 | Φ6mm 316不銹鋼針閥 | |
電功率 | AC220V/50HZ/20W | |
響應時間 | 氣特性：1～4 Sec，電特性：10 Sec | |
準確度 | ±1.5% | |
線性 | ±0.5～1.5% | |
重復精度 | ±0.2% | |
接口 | Φ6,1/4'' | |
真空系統技術參數 | ||
? ? ? ? ? | 外型尺寸 | 600×600×600mm |
工作電電壓 | 220V±10% ?50~60HZ | |
功率 | 400W | |
抽氣速率 | 4L\s | |
極限真空 | 4X10-2Pa | |
實驗真空度 | 1.0X10-1Pa | |
容油量 | 1.1L | |
進氣口口徑 | KF25 | |
排氣口口徑 | KF25 | |
轉速 | 1450rpm | |
射頻電源 | ||
? | 信號頻率 | 13.56 MHz±0.005% |
功率輸出范圍 | 3W-300W ??5W-500W可選 | |
最大反射功率 | 200W | |
射頻輸出接口 | 50 Ω, N-type, female | |
功率穩定度 | ±0.1% | |
諧波分量 | ≤-50dbc | |
供電電壓 | 單相交流（187V-253V）?頻率50/60HZ | |
整機效率 | >=70% | |
功率因素 | >=90% | |
冷卻方式 | 強制風冷 |
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